游戏物体所有面都计算阴影
在游戏物体的Inspector中，展开Lighting选项卡，在Cast Shadows中选择 Two Sided。
选择Two Sided后，游戏物体在计算阴影的时候会对Mesh的所有面都计算，这样会看起来更加真实。
改善光泄露问题（light leaks）
光泄露是指光出现在了游戏物体周围不该出现的地方。这种问题一般是光穿过了它本来不应该穿过的地方，比如穿过了墙或在两面不透光的墙中间。根据项目的设置不同，作为非相关领域专家（lighting artist），要解决这个问题会比较棘手，但我们能够通过部门设置改善这个问题。
如下图，立灯旁边的门和墙有一些光线漏了出来（看地面上的白色先线条处）。
我们在Hierarchy中选择Directional Light，在其Inspector中，慢慢降低Bias Normal的值到0，观察一下场景中的这个漏光的地方有什么改变
实验看看Depth，Normal和Near Plane属性值，试着将漏光问题降到最小。
注意：不要将Bias设置得过高，这个值过高会让物体的影子看起来会和物体分离开。
最后，在Lighting窗口中点击Generate Lighting生成烘焙光照结果。
检查新导入模型的光照问题
接下来我们用一个有问题的LightmapUV数据的苹果模型来说明如何去诊断新导入模型的光照问题（模型下载地址https://connect-prd-cdn.unity.com/20211124/2a865f48-d818-4ff2-8106-fcd6dbfa63d9/Apple_BrokenLightmapUVs.fbx?_ga=2.265317894.822622723.1637578205-1717752285.1627477648）。首先在场景中导入这个有问题的模型。这里将模型选择为Static，然后重新烘焙一下场景光照。在这里例子中，苹果表面只有一半有反光，并且反光以一种奇怪的方式扭曲了
出现这个问题的原因是模型没有正确的lightmap UV。
检查烘焙光照贴图诊断视图
将模型正确配置好用于烘焙光照是非常重要的。如果这一步有问题，我们会得到非预期或者是完全不想要的效果。诊断视图在这方面能起到比较大的帮助，特别是对于案例中的苹果模型的问题，并不是一眼就能看出的明显的问题。
要打开烘焙光照贴图的诊断视图，在Draw Mode下拉菜单中选择Baked Lightmap
选择之后，我们可以看到，场景视图中出现了一层覆盖图层（overlay）
这个覆盖层是一种棋盘格图案，我们可以用来用这种pattern来识别模型的问题。调整Light Exposure可以让棋盘格更加容易看清楚。
可以看到，棋盘格图形在苹果模型上扭曲的非常厉害。
生成模型的Lightmap UVs
在资源窗口中选择导入的模型，在其Inspector中，找到Generate Lightmap UVs属性（模型导入设置里Model标签页最下面）
勾选Generate Lightmap UVs，然后点击Apply。
这是我们可以看到苹果表面的棋盘格图案看起来正常一点了（案例中模型的比例进行了调整，因此看起来棋盘格图案看起来较大）：
将Draw Mode切换回Shaded，然后重新烘焙一下光照，看看结果。
有一点比较重要，Generate Lightmap UVs只是提供了非常基础的改善效果，并不能完全替代艺术家的工作。